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晶体生长设备

通讯员:杨清华  添加日期:2012-12-18  点击数量:392

    最高温度:2500°C
   可在真空、惰性气体下工作,压力范围5x102至1500mbar(可定制高真空)
   标准配置2-4个加热区(最多可定制20个加热区)
   样品提拉速度1-60mm/h,专利传动技术,最大限度降低样品震动。
   精确的样品定位,误差<1mm
   全自动控制